セイワ・オプティカル


　設備

真空蒸着装置

真空薄膜形成装置
800φ　 1台
1050φ　2台
1300φ　1台

シンクロトン　真空薄膜形成装置
分光光度計

日立ハイテク　日立分光光度計U-4100
固体試料測定システム
測定波長範囲：240～2,600nm、試料サイズ：最大200×200mm


U-4100　分光光度計
レーザー干渉計

Zygp社製　GPI XP

オートコリメーター

Nikon製　6B

洗浄ライン

光学製品に付着した不純物をケミカル処理 にて洗浄します。



洗浄ライン




　沿革

2000年8月16日

有限会社セイワ・オプティカル設立。
神奈川県大和市にて、「光学部品加工」「接合剥離サービス」「洗浄剤販売」を主業務とする。
2002年1月


 薄膜形成装置導入のため、神奈川県厚木市に移転。
真空蒸着装置により「光学薄膜加工」を開始。
※接合剥離サービスは「有限会社セイワ・オプトへ移管」